第204章 说实话，我对贵公司的研发能力是存疑的

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  “不，浸没式光刻机，我相信他们或许在五六年后可以制造出来，但euv光刻机，哪怕是给他们图纸，他们也造不出来。”戴拿摇头笑道。

        “……”

        euv光刻机，真的这么恐怖么？ъìqυgΕtv.℃ǒΜ

        其他人可能不知道，但戴拿清楚。

        那真的已经是人类智慧的极限了。

        ----(*￣︿￣)----

        且不提外面互联网上的纷纷扰扰，华国光科技产业联盟成立以后，下午就开始了交流探讨。

        每一家会员企业都有权利和机会上台做汇报，宣传自己目前的研究成果，就相关问题困难坦诚交流，为推进光刻机产业进行深入探讨。

        今天下午首先在台上汇报的便是魔都微电子的贺明。

        “各位领导、企业家朋友们，我是魔都微电子董事长兼ceo的贺明，首先非常感谢大家的信任，将我选为联盟主席团副主席，在此，我郑重承诺，全力支持和配合光刻机产业联盟事业，力争在最短的时间内实现28nm工艺的ic前道制造光刻机的成功研发。”

        随后，贺明在ppt汇报中，就企业目前研发的产品进行了宣传。

        包括刚研发成功的90nm分辨率的前道制造光刻机，采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术，以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术。

        目前，国内仅有一间fab企业采用这么一款。

        据说也是不是特别成熟，良品率对比阿斯麦耳的二手老旧光刻机都比不了。

        此外，还有封装光刻机，可达到40/50nm的制程，研发成功之后，迫使国外相关类型的光刻机降价了1/3以上。

        而后，在问题方面，贺明哭起了穷。

        “……研发先进制程的前道光刻机一直是我们公司的努力方向，但目前来说，由于研发成本极高，28nm工艺的浸没式光刻机整机需要的重要部件仍然未研发出来，影响了我们的下一步的整机研发……”

        ……

        在汇报之后，便是直接的讨论和提问。

        “请问贺总，贵公司的28nm前道制造光刻机是否已经立项，预计需要多少资金研发？”

        贺明拿着话筒回道，“目前已经立项，预计需要研发

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